单斜相氧化锆粉体 — 未稳定 ZrO₂，用于耐火材料、铸造和热加工
SEMITECH 单斜相氧化锆是未稳定二氧化锆粉体，ZrO₂+HfO₂ ≥99.0%，熔点 2715°C，低导热率 2.0–2.5 W/m·K，适用于需要最高耐火度而无需氧化钇稳定成本的场合。提供电熔（d50 10–45 μm）和化学沉淀（d50 ~1 μm）两种等级。
技术规格 — 电熔级
| 参数 | 单位 | 典型值 | 测试方法 |
|---|---|---|---|
| ZrO₂ + HfO₂ | wt% | ≥99.0 | XRF |
| HfO₂ | wt% | ≤2.0 | XRF |
| SiO₂ | wt% | ≤0.15 | ICP-OES |
| Fe₂O₃ | wt% | ≤0.05 | ICP-OES |
| TiO₂ | wt% | ≤0.10 | ICP-OES |
| Al₂O₃ | wt% | ≤0.10 | ICP-OES |
| Na₂O | wt% | ≤0.05 | ICP-OES |
| 晶相 | — | 单斜相 ≥95% | XRD |
| 熔点 | °C | 2715 | — |
| 密度（理论） | g/cm³ | 5.68 | — |
| 粒径 d50 | μm | 10–45（可调） | 激光衍射 |
| 粒径 d90 | μm | ≤100 | 激光衍射 |
| 颜色 | — | 白色至灰白色 | 目视 |
技术规格 — 沉淀级
| 参数 | 单位 | 典型值 | 测试方法 |
|---|---|---|---|
| ZrO₂ + HfO₂ | wt% | ≥99.5 | XRF |
| HfO₂ | wt% | ≤2.0 | XRF |
| SiO₂ | wt% | ≤0.05 | ICP-OES |
| Fe₂O₃ | wt% | ≤0.02 | ICP-OES |
| Na₂O | wt% | ≤0.10 | ICP-OES |
| Cl⁻ | ppm | ≤500 | 离子色谱 |
| 灼烧减量 (1000°C) | wt% | ≤1.5 | 重量法 |
| BET 比表面积 | m²/g | 5–25 | N₂ 吸附 (ISO 9277) |
| 粒径 d50 | μm | 0.5–5.0（可调） | 激光衍射 |
| 晶相 | — | 单斜相 ≥90% | XRD |
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应用建议
耐火衬里和窑具
电熔级用于玻璃熔融、钢铁连铸水口和特种金属加工的氧化锆坩埚和衬里。SiO₂ ≤0.15 wt% 满足接触玻璃液的纯度要求。
熔模铸造型壳体系
面层材料用于航空航天高温合金部件（涡轮叶片），在 1500–1600°C 下抵抗与熔融镍基合金的反应。供应精确分级的电熔粉料（浆料用 d50 5–15 μm，撒砂用 50–150 目），满足 AMS 2175。
热障涂层粘结层
单斜相粉体（d50 15–45 μm，等离子体球化）用于 APS 粘结层沉积送粉原料。
陶瓷色料合成
沉淀级（d50 1–3 μm, BET 10–20 m²/g）作为锆基陶瓷色料的基体晶格材料，与 SiO₂ 和掺杂氧化物在 900–1200°C 反应形成锆石色料。
磨料和抛光应用
电熔单斜相氧化锆（莫氏硬度6.5）用作涂附磨具和抛光化合物，韧性优于氧化铝。
技术支持与常见问题：单斜相氧化锆粉体
+Q1：电熔和沉淀有什么区别？
电熔：>2800°C 熔化后破碎，致密棱角状颗粒，适用于耐火材料和热喷涂。沉淀：从 ZrOCl₂ 化学沉淀，细小高比表面积粉体，适用于色料和催化剂前驱体。
+Q2：为什么不用稳定氧化锆做耐火材料？
成本高3–5倍且多数耐火材料无需稳定。相变体积变化可通过控制升温速率和复合配方管理。
+Q3：接触玻璃液需要什么纯度？
SiO₂ ≤0.15 wt%，Fe₂O₃ ≤0.05 wt%。特种玻璃可要求更低杂质变体，MOQ 500 kg。
+Q4：价格、MOQ 和交货期？
电熔级 MOQ 500 kg，7–14 工作日。沉淀级 MOQ 25 kg，10–21 天。免费 1 kg 样品附 COA。
包装与储存信息
电熔级 — 25 kg PP 袋或 1000 kg 吨袋。沉淀级 — 25 kg 牛皮纸袋或 500 kg 吨袋。电熔级化学惰性，保质期无限。沉淀级 <60% RH 储存，密封包装保质期18个月。